日本首台EUV光刻机将于2024年抵达，Rapidus推进半导体制造进程

根据《日本经济新闻》的最新报道，日本先进半导体代工企业Rapidus于2024年12月中旬将迎来其第一台来自ASML的极紫外光（EUV）光刻机。这台光刻机的抵达将标志着日本在半导体制造领域迈出了重要一步，成为全国首台具备EUV技术的设备。这一进展不仅对Rapidus本身，也对整个日本半导体产业而言，都具有重大意义。

据悉，Rapidus所购置的这款光刻机为较早期的0.33 NA型号，目前全球范围内正在使用的更先进的0.55 NA（High NA）型号数量极其有限，未超过十台。这表明Rapidus选择了一款虽然不是市场上最新技术，但仍具有高精度和强大生产能力的设备，适合他们的生产需求和工艺应用。

为确保这台高精度光刻机在运输过程中的安全性，新千岁机场已对颠簸不平的路面进行了重新铺设，以减少运输途中可能产生的振动。ASML还在千岁市设立了客户服务中心，为这套光刻机提供后续的支持与服务。这显示出日本在半导体制造技术的引进和服务支持方面的重视，以及对于未来生产线的周到考虑。

Rapidus计划在2025年4月启动其先进制程的原型线。这条生产线将配备包括EUV光刻机在内的200余台设备，以满足日益增长的高性能半导体需求。根据千岁市当地透露，Rapidus的IIM-1晶圆厂的建设进度已达到63%，预计将为后续的生产运营奠定坚实基础。这对于提升日本的半导体制造能力、减少对外依赖具有深远的影响。

在目前的半导体市场中，EUV技术已经成为提高制程节点、实现更高集成度与性能的关键。随着全球半导体需求的迅速增长，EUV设备的供应却依然紧张。Rapidus抢先引入EUV光刻机，不仅能够提高自身在半导体代工市场的竞争力，也有助于整个日本半导体产业链的提升。

除了Rapidus外，日本未来还计划引进多家晶圆厂，继续扩展其半导体生产能力。其中，美光在其位于广岛的工厂计划于2025年内引入EUV光刻设备，旨在为2026年的量产做好充分准备。台积电控股子公司JASM在2027年投产的第二晶圆厂同样将引入EUV设备，以支持6nm制程的芯片生产。这表明日本半导体生产布局正日益完善，形成多点联动的大格局。

随着日本各大企业陆续引入EUV光刻技术，国家在全球半导体供应链中的地位有望得到显著提升。近年来，随着地缘政治的改变和全球供应链的不确定性，推动本土半导体产业的自主可控愈加成为国家战略的重要组成部分。通过发展先进制程和引入高端设备，日本不仅可以市场竞争力，还能增强经济安全性，从根本上保障芯片的稳定供应。

Rapidus的IIM-1晶圆厂的建设和即将开始的先进制程生产线，将在技术和产能上为日本的半导体产业注入新的活力。在后续的发展中，Rapidus需继续关注EUV技术的发展动态，增加技术储备并确保设备的高效利用。与相关产业链上的企业加强合作，提升整体竞争力，也是Rapidus未来成功的重要保障。

Rapidus于2024年引入的首台EUV光刻机不仅是公司发展的重要里程碑，同时也是日本半导体行业迈向国际前沿的重要一步。在全球半导体市场竞争愈演愈烈的背景下，日本希望通过提升自主生产能力和技术水平，再次夺回在这一领域的领先地位。未来几年，将是日本半导体产业变革与发展的关键时期，值得各方持续关注。